介绍高纯二氧化碳超临界清洗技术，适配高端制造零残留清洁需求，原料供给充足成本下降，优势显著，获政策支持，成工业精密清洁核心替代方向。
介绍半导体制造用高纯二氧化碳干法刻蚀的优势、国内供应链进展、适配场景及行业发展趋势，助力制程精度与效率升级。
高纯二氧化碳是半导体先进制程关键助剂，国内厂商在提纯工艺获突破，需求随晶圆厂扩产快速增长，相关企业需优化全链路管控以抢占市场。
高纯二氧化碳常被误标无毒存致命危害，国内多领域年需求超1800万吨，管控滞后，2024新规明确其为重点管控介质，需针对性防控。
本指南详解高纯二氧化碳工业场景的风险识别、规范操作、应急处置等全维度安全防护要点，助力搭建合规防护体系规避事故。
